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太陽化學(xué)創(chuàng)新油墨科技將亮相美國標(biāo)簽展

科印網(wǎng)
2008-07-23
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    太陽化學(xué)公司(SunChemical)將參加即將舉辦的2008美國標(biāo)簽展(LabelexpoAmericas2008),并在展會上展出太陽化學(xué)公司在標(biāo)簽和窄幅印刷領(lǐng)域的最新產(chǎn)品,這些產(chǎn)品將可以幫助用戶提高生產(chǎn)效率和生產(chǎn)安全性。并且太陽化學(xué)還將在展會上,向參會觀眾推廣其在電子印刷和數(shù)字印刷領(lǐng)域所取得的最新技術(shù)進(jìn)展。

  據(jù)SpecialChem了解,即將在本次標(biāo)簽展上亮相的太陽化學(xué)窄幅印刷產(chǎn)品將包括標(biāo)簽保護(hù)以及電子印刷領(lǐng)域的創(chuàng)新技術(shù)。而且太陽化學(xué)還會推出全新的UV柔版印刷和水性柔版印刷產(chǎn)品。

  太陽化學(xué)的展臺設(shè)在展廳內(nèi)6123號,作為本次參展的宣傳口號“伴您成功”,太陽化學(xué)還帶來能夠?yàn)檎∷⒑蜆?biāo)簽印刷行業(yè)提升質(zhì)量的技術(shù)解決方案。

  “我們非常高興能把最新的印刷產(chǎn)品引進(jìn)到北美市場,”太陽化學(xué)特種油墨部門負(fù)責(zé)人MichaelKellen,“標(biāo)簽展將是太陽化學(xué)公司推出相關(guān)技術(shù)和產(chǎn)品的一個良好平臺。尤其是太陽化學(xué)Solaris系統(tǒng)產(chǎn)品,可以為標(biāo)簽印刷和窄幅印刷工業(yè)帶來諸多便利和優(yōu)勢,提高行業(yè)生產(chǎn)效率、縮小操作空間、降低固話釋放氣體、降低體系對濕度的敏感性、提高油墨的基材附著力和各種抗性。” 


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