于蘭哲，曲丹，贠延濱
(北京林業(yè)大學(xué) 環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院，北京 100083)

　　摘  要：采用分子印記技術(shù)，以山奈素為模板分子，4-乙烯基吡啶(4-VP)為功能單體，乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)為交聯(lián)劑，偶氮二異丁氰(AIBN)為引發(fā)劑，在CHCl3-DMF(體積比3∶1)的溶劑體系中合成了含堿性功能基團(tuán)的分子印記聚合物。通過(guò)紅外光譜及掃描電鏡(SEM)對(duì)聚合物進(jìn)行表征，并研究印記聚合物對(duì)山奈素的吸附性能及機(jī)理。靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：該分子印記聚合物對(duì)山奈素具備良好的吸附能力，經(jīng)Scatchard模型分析印記聚合物存在對(duì)模板分子均一的結(jié)合位點(diǎn)，其最大表觀吸附量(Qmax)為3 938 μg/g，平衡解離常數(shù)(KD)9.074 mg/L。選擇性實(shí)驗(yàn)表明，分子印記聚合物在山奈素-蘆丁體系中的分離因子達(dá)到3.24。

　　關(guān)鍵詞：分子印記聚合物；山奈素；特異識(shí)別；吸附性能

　　中圖分類(lèi)號(hào)：TQ351

 　　文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 

　　文章編號(hào)：0253-2417(2011)04-0019-06